问：真空镀AB的技术
- 答：咨询记录 · 回答于2021-12-10
真空镀AB的技术
真空镀膜技术是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，吸收离子配合磁控以及射频等一系列技术手段，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发，理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。简易区分就是薄膜是否经过化学反应生成，是的话CVD，反之PVD。
问：为什么要在真空中镀膜
- 答：所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。在真空条件下成膜可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低
- 答：1.镀的过程中不会受空气分子碰撞，有较大的动量到达待镀件表面
2.防止气体“污染”。如：镀金属膜时可以防止氧化
3.成膜过程不受气体影响，致密牢固
4.真空（负压）状态下，镀膜材料的熔点教常压下低，易于融化蒸发（对于蒸发类型的镀膜）
问：真空电镀工艺具有哪些特点
- 答：真空电镀工艺的特点有1.真空镀膜所镀的金属膜层是需要比较薄的，应该在0.01-0.1微米，并且可以严格的复制出镀件表面的形状；2.真空电镀的工艺使用电压不是很高，应该在200V，工艺流程比较简单；3.工艺所使用的蒸镀锅瓶的容积比较小，电镀件的出数件比较少，生产效率比较低；4.真空镀膜工艺只限于比钨丝熔点比较低的金属，如铝、银、铜、金等等镀件饰品；5.真空镀膜的工艺质量要求比较高，电镀之前必须要打底油来弥补工件表面存在的一些不足；6.真空镀膜工艺可以镀的塑料件材质有许多，包括ABS、PE、PVC等等。
问：关于真空电镀
- 答：深圳市宝安区龙华聚龙真空镀膜厂
深圳市宝安区龙华镇联生塑胶真空镀膜厂
深圳市新济达真空镀膜有限公司
深圳市东升真空镀膜有限公司
深圳富士康科技集团
问：真空镀膜主要用于什么研究方向
- 答：现在真空镀膜应用非常广泛
各种镜头（显微镜，枪瞄准镜，夜视仪，望远镜，摄像头，镜头）
装饰镀膜（陶瓷业，高硬度刀具，手机等电子产品外壳，手表，奢侈品装饰等）
显示行业透明导电膜等
幕墙玻璃，汽车贴膜，太阳能电池，真空集热管，各种镜子
眼镜业
各种滤光片
半导体行业
仪器制造业
通信技术（光纤等） - 答：表面工程，提高材料的耐磨损、耐腐蚀、硬度、外观等性能
